超分辨光刻装备项目
国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”2018年11月29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
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